B240729:ナノインプリントリソグラフィ(NIL)の基礎・応用 | 技術セミナーの開催・書籍出版　サイエンス＆テクノロジー＜Ｓ＆Ｔ＞

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セミナーセミナー番号:B240729(NIL)

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ナノインプリントリソグラフィの基礎・応用

ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）の基礎、要素技術、実用例を解説

受講可能な形式：【会場受講】

　本セミナーでは、ＮＩＬの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を解説する。また、ロールトゥロール（RTR）NILやメタサーフェスおよびAR/MRグラスでのNILの応用状況についても概説する。

このセミナーの受付は終了致しました。

日時	2024年7月29日（月） 13:00～16:30
会場	東京・品川区大井町きゅりあん 5階第1講習室	会場地図
受講料(税込) 各種割引特典	49,500円 ( E-Mail案内登録価格 46,970円 ) S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について定価：本体45,000円＋税4,500円 E-Mail案内登録価格：本体42,700円＋税4,270円
受講料(税込) 各種割引特典	E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料 1名分無料適用条件 1名分無料適用条件 ※2名様ともE-Mail案内登録が必須です。　2名様以降の受講者は、申込み前にE-Mail案内登録をお済ませください。 ※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。 ※3名様以上のお申込みの場合、上記１名あたりの金額で受講できます。 ※受講券、請求書は、代表者に郵送いたします。 ※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。 (申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。) ※他の割引は併用できません。 2名で49,500円 (2名ともE-Mail案内登録必須／１名あたり定価半額24,750円)
配布資料	製本テキスト(会場にて直接お渡しします)
備考	※講義の録画・録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
得られる知識	・ナノインプリントリソグラフィ（NIL）の基礎・NILにおける金型作製技術・NILにおける転写樹脂・NILにおける応用例・ロールトゥロール（RTR）NILによる転写例・反射防止構造フィルムの量産例とその応用・リソグラフィ用途の動向・新技術動向、メタレンズ、AR/VRグラス等

このセミナーは終了しました。

このセミナーへの問合せ（再開催・社内研修）

セミナー講師

東京理科大学先進工学部電子システム工学科・教授　谷口淳氏
【その他活動等】
　応用物理学会ナノインプリント技術研究会運営委員長

セミナー趣旨

　ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。また、最近は半導体露光装置への適用も期待されており、メタサーフェスやAR/VRグラスへの応用も進んでいる。このように、ＮＩＬは最先端の高付加価値の製品をリーゾナブルな価格で作製することができる。

　本講演では、ＮＩＬの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、今後の新製品のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール（RTR）NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品のヒントが得られると考えている。また、近年活発化しているメタサーフェスおよびAR/MRグラス等の状況も概説する。

セミナー講演内容

１．はじめに
　1.1 ナノインプリントリソグラフィの現状
　1.2 ナノインプリントリソグラフィの実用例

２．ナノインプリントの基礎
　2.1 ナノインプリントの歴史
　2.2 ナノインプリントの要素技術
　2.3 ナノインプリントの各種方式
　2.4 ナノインプリントの位置づけ

３．ナノインプリントの応用技術
　3.1 ナノトランスファープロセス
　3.2 金属パターン転写

４．ロールトゥロール (RTR) ナノインプリント
　4.1 RTR NILの基礎
　4.2 反射防止構造（モスアイ構造）
　4.3 モスアイ構造の作製方法
　4.4 モスアイ構造の転写方法
　4.5 モスアイ構造の応用例

5.　将来展望
　5.1 メタサーフェス
　5.2 AR/MR グラス

6．まとめ

□ 質疑応答 □

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セミナーセミナー番号:B240729(NIL)

ナノインプリントリソグラフィの基礎・応用

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