A250619:プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応 | 技術セミナーの開催・書籍出版　サイエンス＆テクノロジー＜Ｓ＆Ｔ＞

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＜半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ＞
プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による
高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

■装置メーカーの立場から、プラズマCVD装置の技術／課題と対策を解説■

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★ 30年以上の実績・経験がある装置メーカーから、実務レベルで解説いたします！

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【Live配信(アーカイブ付き)】 2025年6月19日（木） 13:00～16:30

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特典

■Live受講に加えて、アーカイブでも１週間視聴できます■
【アーカイブの視聴期間】2025年6月20日(金)～6月26日(木)まで
このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。

アーカイブ(見逃し)配信について
※視聴期間は終了翌日から7日間を予定しています。またアーカイブは原則として編集は行いません。
※マイページからZoomの録画視聴用リンクにてご視聴いただきます。

配布資料

PDFデータ(印刷可・編集不可)
　※Live配信受講の場合は、開催2日前を目安に、S＆T会員のマイページよりダウンロード可となります。
　※アーカイブ配信受講の場合は、配信開始日からダウンロード可となります。

オンライン配信

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※開催2日前を目安に、S＆T会員のマイページよりダウンロード可となります。

備考

※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

セミナーリクエスト

セミナー講師

SPPテクノロジーズ(株)
製造部次長　兼　生産管理グループ長　兼　マーケティング部マネジャー　金尾寛人　氏
【経歴・研究内容・専門・活動】
1989年3月　名古屋工業大学工学部第一部電気情報工学科を卒業．
1989年4月　住友金属工業(株)に入社．
Si基板上GaAs膜のヘテロエピタキシー成膜技術の研究開発(1年)や半導体デバイス向けECRプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(10年)
2000年4月　住友精密工業(株)に入社(派遣、2002年3月転籍、2011年12月にSPPテクノロジーズに出向)
MEMSや光デバイス向けプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(3年半)
装置全般の技術営業、マーケティング（現在）
【WebSite】
https://www.spp-technologies.co.jp/

セミナー趣旨

　当社は、1989年から「研究開発用半導体一貫製造システム」の開発を開始して、装置メーカーとして、30年以上の実績・経験があります。この講演では、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心にご紹介いたします。

セミナー講演内容

＜得られる知識・技術＞
プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策について知ることができます。

＜プログラム＞
１．プラズマCVD装置の基本構造
　1.1 プラズマCVD装置の構成
　1.2 反応チャンバーの基本構成

２．プラズマCVD装置の用途
　2.1 適用アプリケーション

３．プラズマCVD装置のプロセス性能
　3.1 SiH4系SiO2膜
　3.2 SiH4系SiN膜
　3.3 SiH4系SiON膜
　3.4 SiH4系a-Si膜
　3.5 SiH4系SiC膜
　3.6 TEOS系SiO2膜
　3.7 液体ソース系SiN膜

４．開発用装置と量産用装置
　4.1 プラットフォーム

５．プラズマCVD装置の課題と対策
　5.1 高レート化
　5.2 プロセスの再現性
　5.3 低パーティクル
　5.4 チャンバークリーニング
　5.5 ウェーハ温度の低温化
　5.6 ウェーハ大口径化　　など

　　□質疑応答□

セミナーリクエスト

セミナーセミナー番号:A250619(プラズマCVD装置)

＜半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ＞プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

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