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エアロゾルデポジション法の成膜原理と
プロセス制御指針・応用展開

~粒子挙動やプロセス条件と膜特性の関係およびプロセス制御に向けた示唆~

受講可能な形式:【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ

AD法における成膜原理、装置構成、ガス流量・ガス種や基板温度などのプロセス条件が成膜挙動や膜特性に与える影響、成膜粒子の速度測定手法とそれに基づく成膜挙動の解析、各種材料・基材への応用事例など、講師の研究成果をもとに解説します。
講演を通じて、プロセス設計・最適化に向けた示唆や知見を得ることができる内容です。
日時 2026年7月15日(水)  10:30~16:30
受講料(税込)
各種割引特典
55,000円 ( E-Mail案内登録価格 52,250円 ) S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について
定価:本体50,000円+税5,000円
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  ※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
  ※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。
  ※他の割引は併用できません。
特典■ライブ受講に加えて、見逃し配信でも1週間視聴できます■
【見逃し配信の視聴期間】2026年7月16日(木)~7月22日(水)まで
※このセミナーは見逃し配信付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※ライブ配信を欠席し見逃し視聴のみの受講も可能です。
※視聴ページは、開催翌営業日の午前中には、マイページにリンクを設定する予定です。
配布資料PDFテキスト(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。
オンライン配信Zoomによるライブ配信 ►受講方法・接続確認申込み前に必ずご確認ください
備考※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
得られる知識新規の成膜技術であるエアロゾルデポジション法の基礎(成膜の特徴や装置構成、成膜の原理)や応用展開についての事例などの知識が習得できる。
対象様々な分野において、加熱などが制限された基材へのセラミックスコーティングの成膜が求められる方。
従来の成膜手法との違いや得られる膜の用途展開、将来展望などを把握されたい方。

セミナー講師

横浜国立大学 大学院工学研究院 システムの創生部門 教授 博士(工学) 長谷川 誠 氏
専門:材料強度学、材料組織制御学、高温強度、表面処理・コーティング、集合組織

セミナー趣旨

 エアロゾルデポジション(AD)法は、従来の「高温焼結によってセラミックスを形成する」手法とは全く異なる新規の「焼かない」手法です。室温にてセラミックス粒子を基板に衝突させることで、数ミクロンから数十ミクロン程度の厚さとなる原料粒子と同一組成・結晶構造を有する緻密かつ結晶質な膜が形成します。この手法は、室温にて粒子の運動エネルギーを利用してセラミックス膜を形成することから、エネルギー消費を大きく抑制する環境に配慮した新規の材料創製法として持続可能な社会の構築に必須のプロセス技術だと考えられます。
 本セミナーでは、AD法における装置の構成や成膜の特徴、原理について解説するとともに、本手法の応用展開について紹介します。

セミナー講演内容

1.エアロゾルデポジション(AD)法による成膜の特徴
 1.1 背景
 1.2 AD装置の構成
 1.3 成膜条件が膜の形成に与える影響
  1.3.1 アルミナ粒子での成膜
  1.3.2 ジルコニア(YSZ)粒子での成膜
  1.3.3 ムライト粒子での成膜
  1.3.4 金属粒子での成膜
 
2.エアロゾルデポジション(AD)法による成膜の原理
 2.1 近年提唱されている成膜原理
 2.2 シミュレーションによる成膜の理解
 2.3 成膜粒子の速度測定手法
 2.4 粒子速度および粒子のエネルギーに基づいた成膜の解析
 2.5 AD法による結晶配向膜の形成
 
3.成膜体の特性と用途展開
 3.1 粒子配向チタン酸ビスマスAD膜の物性
 3.2 AD法による低発塵性部材
 3.3 プラスチックへのAD法の適用
 3.4 ADアルミナ硬質膜のローラへの適用
 3.5 AD膜の環境遮蔽膜としての可能性

 □質疑応答□