A221207: EUVリソグラフィの発展・課題とレジスト材料・技術の研究・開発動向 | 技術セミナーの開催・書籍出版　サイエンス＆テクノロジー＜Ｓ＆Ｔ＞

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セミナーセミナー番号:A221207(EUVL・レジスト)

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EUVリソグラフィの発展・課題と
レジスト材料・技術の研究・開発動向

【1部】EUVリソグラフィ開発課題　【2部】EUVレジスト開発動向　【3部】メタル含有レジスト研究

受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ
※アーカイブは1,2部のみの限定配信

第1部では、マスク吸収体材料、Stochastic Errorに対応レジスト、ペリクルなど、新しい材料開発が進むEUVリソグラフィー全体の要素技術・課題・展望について、当技術の先駆者である木下氏が解説。
第2部以降ではレジスト材料技術にフォーカスし、Photon StochasticとChemical Stochastic低減のためのアプローチや、メタル含有レジストの反応機構や課題などをご紹介します。

このセミナーの受付は終了致しました。

日時	2022年12月7日（水） 10:30～16:15
会場	オンライン配信セミナー	会場地図
受講料(税込) 各種割引特典	55,000円 ( E-Mail案内登録価格 52,250円 ) S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について定価：本体50,000円＋税5,000円 E-Mail案内登録価格：本体47,500円＋税4,750円
受講料(税込) 各種割引特典	E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料 1名分無料適用条件 1名分無料適用条件 ※2名様ともE-Mail案内登録が必須です。　2名様以降の受講者は、申込み前にE-Mail案内登録をお済ませください。 ※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。 ※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。 ※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。 ※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。) ※他の割引は併用できません。 2名で55,000円 (2名ともE-Mail案内登録必須／１名あたり定価半額の27,500円) 【テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】 1名申込みの場合：受講料39,600円 ( E-Mail案内登録価格 37,620円 ) 　　　定価：本体36,000円＋税3,600円　　　E-Mail案内登録価格：本体34,200円＋税3,420円　※１名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。　※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。　※他の割引は併用できません。
配布資料	製本テキスト(開催日の4，5日前に発送予定) 　※セミナー資料はお申し込み時のご住所へ発送させていただきます。　※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、　　開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。　※受講時にはスライドが画面表示されますので製本テキストがお手元に無くても受講には差支えございません。
オンライン配信	ZoomによるLive配信　►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください）セミナー視聴はマイページからお申し込み後、マイページの「セミナー資料ダウンロード／映像視聴ページ」にお申込み済みのセミナー一覧が表示されますので、該当セミナーをクリックしてください。開催日の【営業日２日前】より視聴用リンクが表示されます。アーカイブ(見逃し)配信について　（1,2部のみの限定配信）視聴期間：終了翌営業日から7日間［12/8～12/14］を予定 ※第３部のアーカイブ配信はございません。 ※アーカイブは原則として編集は行いません ※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。 (開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます）
備考	※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

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セミナー講師

第1部(10:30～12:00)　アーカイブ有
　EUVリソグラフィの要素技術・課題と今後の展望

　兵庫県立大学名誉教授　工学博士　木下博雄氏
　【専門】X線光学、微細加工　【講師紹介】

第2部(13:00～14:30)　アーカイブ有
　EUVレジストの課題と開発動向
　富士フイルム(株)　エレクトロニクスマテリアルズ研究所　シニアエキスパート　藤森亨　氏
　【専門】有機合成化学、有機化学、リソグラフィ、フォトレジスト【講師紹介】

第3部(14:45～16:15)　アーカイブ無

　放射線化学に基いたメタル含有レジストの研究
　大阪大学　産業科学研究所　教授　工学博士　古澤孝弘　氏
　【専門】応用ビーム工学　【講師紹介】

セミナー講演内容

第1部(10:30～12:00)

EUVリソグラフィの要素技術・課題と今後の展望

兵庫県立大学名誉教授工学博士木下博雄氏

［趣旨］

　2017年EUV光源パワーが250Wを達成したことにより、2019年の7nmノードからの本格的な量産が開始された。現在5nmノードまで進展し、Critical　layer数層から10数層へと加工領域が広がっており、Smart phone等のMobile機器で身近に微細化の恩恵に預かっている。TSMCの5nmノードからはDouble Patterningの導入、2025年にはNA0.55のHigh NA機が登場し、さらなる微細化が顕著となり、マスク吸収体材料、Stochastic　Errorに対応したレジスト材料、ペリクルなど新しい材料開発が進められている。本講演では現状と今後の課題を簡潔にお話したい。

［プログラム］

１．EUVリソグラフィー開発小史

２．EUVリソグラフィーの要素技術と課題

３．今後のDevice加工の推移とEUVLの役割

４．半導体開発の地政学

５．今後の開発課題
　5.1 マスク吸収体厚の低減と微細化
　5.2 多層膜の寿命拡大への試み
　5.3 Pellicle膜の開発
　5.4 その他

６．高NA機の概要と現状

７．まとめ

　　□質疑応答□

［得られる知識］
　EUVL開発での日本の役割、如何なる技術開発に力点を置くべきか
［こんな人におススメ］
　材料開発のリーダー、予備知識は不要
［キーワード］
　EUVL, Source, Mask, Resist, Multilayer, Hydrogen damage
［参考図書］
　Extreme Ultraviolet Lithography, Principle and Basic Technologies, Hiroo Kinoshita, 2021.9（2nd version）

第2部(13:00～14:30)

EUVレジストの課題と開発動向

富士フイルム(株) エレクトロニクスマテリアルズ研究所
シニアエキスパート藤森亨氏

［趣旨］

　電子デバイスのさらなる高速化・大容量化・省電力化に不可欠なEUVレジストは、長い年月を経て2019年に量産適用に至った。しかしながら、期待されるEUVレジストの性能には遠く課題山積である。EUVレジストの課題と開発動向に関し解説する。

［プログラム］

１．私たちの世の中を取り巻く環境の変化

２．EUVリソグラフィの必要性

３．EUVリソグラフィの歴史

４．EUVリソグラフィ実現のための国家プロジェクトEIDECでの検討
　4.1 アウトガス問題の解決と世界アライン
　4.2 メタルレジストの開発

５．EUVレジストの課題、最新動向、技術開発の紹介
　5.1 ストカスティック（確率論的）因子低減と量産適用に対する開発
　5.2 ストカスティックの分析、Photon StochasticとChemical Stochasticの解説
　5.3 Photon StochasticとChemical Stochastic低減のためのアプローチ

　　□質疑応答□

［得られる知識］
　EUVリソグラフィの歴史、実現のための課題とその解決検討状況
［こんな人におススメ］
　リソ関連、レジスト材料、原材料従事者、特に若い研究員。化学系企画・マーケティング従事者等
［キーワード］

　EUVリソグラフィ、半導体、EUVレジスト、ストカスティック

第3部(14:45～16:15)

放射線化学に基いたメタル含有レジストの研究

大阪大学産業科学研究所教授工学博士古澤孝弘氏

［趣旨］

　EUVリソグラフィにおいて、次世代サブ10 nmHP用（オングストロームノード用）として期待されるメタル含有レジストの反応機構と課題について解説します。

［プログラム］

１．レジストとは

２．次世代レジストの課題

３．レジストの像形成機構

４．なぜ、メタルが必要か

５．光吸収と光電子放出

６．二次電子と減速過程と熱化

７．熱化電子の還元作用

８．放射線化学反応

９．溶解度変化のメカニズム

１０．課題

１１．まとめ

　　□質疑応答□

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