(株)サークルクロスコーポレーション フェローアナリスト 小野 記久雄 氏

【講師紹介】
　□経歴：
　　1982年(株)日立製作所日立研究所入所。半導体IC、LTPS開発に従事。
　　1993年(株)日立製作所 電子管事業部（後の日立ディスプレイズ）へ異動。TFT-LCD開発。特にTV用IPS-LCDの
　　開発を主な担当とする。
　　2009年パナソニック液晶ディスプレイ(株)へ異動。FPD技術調査（LCD、OLED、QLED、μLEDなど）を行う。
　　2017年末退職。
　　2018年1月より(株)サークルクロスコーポレーションFellow Analyst 就任。
　□著書（共同執筆）
　　･ Edited by S. Ishihara et. al., “High Quality Liquid Crystal Displays and Smart Devices” IET(UK) (2019).
　□主な受賞歴
　　・2013年（公社）発明協会 全国発明表彰、発明賞
　　・2015年文部科学大臣表彰科学技術賞（開発部門）
　　　受賞テーマ『広視野角で低消費電力を実現したIPS方式液晶パネルの開発』
　　　その他、日本、米国登録特許457件保有、特許分析に精通している。

　XR機器（AR/VR/MR）は市場の伸びが予想されているが、ここ数年の実態は期待とは裏腹の状態にある。XR機器のシェアではVR/MRが圧倒的に大きなシェアがあるが、伸び率の点ではARグラスが堅調である。ARグラスの中でもサングラス風グラス（光学系としてBirdbath、Flatprism）はスタートアップ企業の参入が相次ぎ競争が激化、新技術が続々と搭載・提案されている。

　2025年9月18日（米国時間）で開催されたMeta Connect 2025において、XR機器販売トップシェアのMetaが、同社初の“Meta Ray-Ban Display”の年内販売を発表した。
　本セミナーでは冒頭に、Meta Ray-Ban Displayの発表内容と当方が推定したDisplay（Waveguide、Micro-Display）技術内容を速報する。
　セミナー前半では、これら新技術が搭載されたARグラスを分解調査レベルで技術解析を行い、市場競争を勝ち抜く技術を見定める。対象はＸreal社のARグラスoneおよびone pro、ASUS社の AirVision M1、ミラー方式Letin AR搭載のNTTコノキューデバイス社・MiRZAなどである。
　セミナーの後半では、まず、Meta社では将来はスマホの置き換え巨大市場を狙う、薄型Waveguide搭載の透明ARグラスの現在の技術課題を見出す。その中で改善が必要なFOV、Eye Glow(表面への画像リーク)、重量の各項目の具体的な改善方法を紹介する。そして、これら改善を含めたARグラスの次世代へのロードマップを議論する。
　セミナ―終盤では、上記ARグラスに搭載されるシリコンディスプレイであるOLEDoS、LEDoS、そしてLCoSの最新SID2025で注目された次世代技術内容を解説する。

１．Meta Connect 2025で公表の“Meta Ray-Ban Display”とその技術内容

２． XR機器の市場動向予測

３． 2024年段階でのXR機器の用途・仕様の比較

４．最新ARグラスの分解レベルを含む技術内容解析
　　4.1 視野角FOVを改善したXreal社ARグラスOne, One pro
　　　　〜新採用光学系Flatプリズムの中国出願特許による解析〜
　　4.2 2025年4月発売開始ARグラス(ASUS Air Vision M1）技術の解析
　　4.3 翻訳プロンプターが好評Rokid社Waveguide方式ARグラスGlasses
　　4.4 ミラー型ARグラス「MiRZA」(LetinAR搭載)技術の解析 

５．ライトエンジンPJとしてのLCoSとLEDoSの比較(SID2025報告含む）

６．カラーARグラス次世代エース技術 (Waveguide + LEDoS)の課題
　　6.1 FOVの具体的改善方法：Waveguide + Gratingの課題～SRGの設計での改善～
　　6.2 Eye Glowの具体的改善方法：Waveguide + Gratingの課題
　　6.3 重量の試算と改善方法 ～Waveguide枚数、材質での試算ベース～

７．次世代に向けたARグラスを中心とするXR機器のまとめ 
　　～市場製品の重量、FOVのプロト図面から考察開始～
　　～Ray-Ban Meta Displayからの進化も１つの方向性～

８．SID2025に見るSiディスプレイ（OLEDoS、LEDoS)の最新技術
　　8.1 SSS(Sony)の開発技術レビュー第4世代OLEDoS技術
　　8.2 SSSのイメージセンサー製造方法による初LEDoS試作技術 
　　8.3 Saphluxの変換効率を上げたQD-CFを用いたLEDoS技術～Nanosys QD-CFとの比較含む～